本研究分別以自組電容去離子技術(shù)(Capacitive Deionization Technolgy, CDI)模型廠進(jìn)行硬度及銦、鎵、鉬去除之研究，探討因子包括電壓、濃度等。研究結(jié)果顯示，于硬度去除特性上，電滲析設(shè)備在不同電壓條件下 1.0 V 及 1.2 V，隨著電壓增加，吸附能力越好，但在 1.4 V、1.6 V、1.8 V條件下 過大的電壓，造成電解反應(yīng)使極板發(fā)生濃度極化現(xiàn)象進(jìn)而發(fā)生極板結(jié)垢，導(dǎo)致吸附能力下降。而在不同濃度操作下，濃度越大去除率越小，濃度為100、150、200、250及300 mg CaCO3/L條件下，硬度去除率分別為 49.7%、31.8%、27.1%、24.3%、22.6%，從各濃度吸脫附循環(huán)的 EC 值發(fā)現(xiàn)，濃度越高電解現(xiàn)象越強(qiáng)，使得吸附量隨濃度增加更快達(dá)到飽和。在銦、鎵及鉬之電吸附特性上，不同電壓操作下，CDI吸附能力與電壓成正比，但水體中鉬離子主要是因?yàn)?Mo7O246-占大多數(shù)，其價(jià)數(shù)高展現(xiàn)出優(yōu)勢(shì)之離子競(jìng)爭(zhēng)性，其次為水合半徑較大，對(duì)于孔洞的進(jìn)入效果較差，導(dǎo)致 OH-及 Cl-無法被有效的吸附。在不同濃度下，濃度越高離子吸附量有增加之趨勢(shì)，但去除率則反之，代表電吸附能力隨著濃度增加逐漸達(dá)到飽和。銦、鎵之離子競(jìng)爭(zhēng)特性，在相同離子價(jià)數(shù)的比較下，水合半徑較小的離子擁有較高的吸附容量，顯示出 In3+比 Ga3+容易吸附。鉬離子則因溶液中不同pH與不同濃度形成不同離子型態(tài)，雖然NO3-初始穆爾濃度為鉬離子的6倍，但對(duì)于鉬離子競(jìng)爭(zhēng)影響不大，鉬離子去除率均為90%以上。