一種進(jìn)一步改進(jìn)的用于化學(xué)沉積槽電解質(zhì)的電滲析設(shè)備，該系統(tǒng)具有*和第二電滲析單元，所述單元各自具有用于槽電解質(zhì)流過(guò)的稀釋室和用于再生電解質(zhì)流過(guò)的濃縮室，并且所述單元與二個(gè)電極，即陽(yáng)極和陰極共同起作用，其中在*電滲析單元中，稀釋室在陰極側(cè)通過(guò)對(duì)單價(jià)陽(yáng)離子選擇滲透的隔膜和在陽(yáng)極側(cè)通過(guò)對(duì)所有陰離子選擇滲透的隔膜與濃縮室分開(kāi)，其中在第二電滲析單元中，稀釋室在陰極側(cè)通過(guò)對(duì)單價(jià)陰離子選擇滲透的隔膜和在陽(yáng)極側(cè)通過(guò)對(duì)所有陽(yáng)離子選擇滲透的隔膜與濃縮室分開(kāi)，其中*電滲析單元的稀釋室與第二電滲析單元的稀釋室經(jīng)用于使槽電解質(zhì)順序流過(guò)的*管道串聯(lián)在一起，并且*電滲析單元的濃縮室與第二電滲析單元的濃縮室經(jīng)用于使再生電解質(zhì)順序流過(guò)的第二管道串聯(lián)在一起，在隨著電滲析設(shè)備內(nèi)部的電解質(zhì)不斷地金屬化而鎳離子被不斷地抽出(其作為元素鎳沉積在待涂覆的表面上)時(shí)，次亞磷酸根離子同時(shí)被連續(xù)地氧化為原亞磷酸根離子，換言之，在電解質(zhì)中，一方面溶解在其中的鎳離子的濃度和電解質(zhì)中包含的次亞磷酸根離子的濃度降低，另一方面電解質(zhì)中包含的原亞磷酸根離子的濃度升高，因此電解質(zhì)被“消耗”，所以隨著電解質(zhì)的使用時(shí)間不斷延長(zhǎng)，通過(guò)使用這樣的電解質(zhì)獲得的鍍膜的質(zhì)量下降，該電解質(zhì)同樣僅能用于進(jìn)行一定次數(shù)的鍍覆，之后該電解質(zhì)或者被廢棄或者借助于適合的助劑再生，在鎳沉積槽的情況下，再生至少意味著抽出作為反應(yīng)產(chǎn)物產(chǎn)生的原亞磷酸根離子，以及如果需要加入彼此消耗的鎳離子和消耗的次亞磷酸根離子，這種電滲析設(shè)備制造成本低，并且使用的電*有高的使用壽命。