為了防止電滲析設(shè)備中的生物污染，劫殺哦一種膜電解堆疊體和包括該膜電解堆疊體的電滲析裝置，無(wú)電金屬鍍?cè)?，例如無(wú)電鎳鍍?cè)『羞€原劑，例如次磷酸鹽，以在待金屬化的表面上沉積金屬，在沉積過(guò)程中還原劑被氧化，并且不再可用于其余的鍍金屬過(guò)程，在使用次磷酸鹽操作的無(wú)電鎳鍍?cè)〉那闆r中，以此方式由次磷酸鹽形成亞磷酸鹽，此外，在鍍金屬的過(guò)程中，在補(bǔ)充消耗的金屬的過(guò)程中另將為此使用的金屬鹽反離子加入至浴中，在鎳鍍?cè)〉那闆r中，例如向浴液供應(yīng)硫酸根陰離子，如同還原劑的氧化產(chǎn)物，這些離子聚積在浴液中，并且干擾鍍金屬過(guò)程的其他部分，無(wú)電鍍?cè)∫旱氖褂闷谕ǔＲ蜻@些反應(yīng)產(chǎn)物的聚積而受限，電滲析設(shè)備包括具有陽(yáng)極室的陽(yáng)極、具有陰極室的陰極，和被陰離子交換膜分隔、以及設(shè)置在陽(yáng)極室和陰極室之間由陰離子交換膜分隔的兩個(gè)其他室，這些室的*個(gè)室通過(guò)陰離子交換膜而與陰極室分隔，而第二室通過(guò)陽(yáng)離子交換膜而與陽(yáng)極室分隔，當(dāng)進(jìn)行該方法時(shí)，將過(guò)程溶液充入*室中，由此其中含有的次磷酸根離子和亞磷酸根離子通過(guò)電滲析轉(zhuǎn)移入第二室中，并且同時(shí)次磷酸根離子被從陰離子室轉(zhuǎn)移入過(guò)程溶液中，并且提取經(jīng)再生的過(guò)程溶液，并供至其他用途，其中，將通過(guò)從陽(yáng)極室流入質(zhì)子而在第二室中形成的酸混合物供至次磷酸鹽負(fù)載中存在的弱堿性陰離子交換膜，其出口連接至陰極室，通過(guò)還原和再生，在陽(yáng)極室中進(jìn)一步再生消耗的次磷酸鹽，并將未消耗的次磷酸鹽*后從陽(yáng)極室中移除，并通過(guò)電滲析，通過(guò)陰離子交換膜供至電鍍?cè)?，這種電滲析設(shè)備的效果大體上與實(shí)際上具有多個(gè)稀液室和濃液室的電滲析裝置相同，但是，其膜交換面積與先提及的電滲析裝置的膜交換面積相同。