電滲析設備可用于中和如半導體工業(yè)中的酸性和堿性流出廢物流，可以在處理廢物流的同時通過將化學能轉(zhuǎn)化成電能來發(fā)電，在各種工業(yè)中使用大量酸性和堿性材料，例如，晶片清洗是集成電路制造中*頻繁重復的步驟并且是半導體設備業(yè)務中*重要的部門之一，隨著器件尺寸縮小和使用新材料，該方法變得更復雜，這樣的清洗法中常用的一些代表性的酸和堿包括鹽酸、硫酸、氫氟酸和氫氧化銨，代表性的半導體加工廠可能每月消耗或至少購買大約70至80噸50%氫氧化鈉溶液來中和酸性廢物，電滲析組件內(nèi)的單元室可以改變形式和大小，例如開始在該室的端部為陽極，*種形式的單元室包括一陽離子膜，一稀的或供料隔室，一陰離子膜和一濃縮的或產(chǎn)品隔室，這些隔室形成單元用于鹽水溶液的脫鹽和鹽的回收和生產(chǎn)，這些單元稱為”標準電滲析濃縮或淡化室“，在化學蝕刻中，使用酸或堿溶解不想要的材料，如金屬、半導體材料或玻璃，用作蝕刻劑的常見的酸和堿包括鹽酸、硝酸、氫氟酸、氫氧化鈉和氫氧化鉀，反向電滲析設備包含:陽極；陰極；與所述陽極和所述陰極電連通的荷載；位于所述陽極和所述陰極之間、由*離子交換膜和雙極膜限定的*室，所述*室與酸性廢棄排出物流流體連通；和位于所述陽極和所述陰極之間、由所述雙極膜和第二離子交換膜限定的第二室，所述第二室與堿性廢棄排出物流流體連通，該系統(tǒng)可進一步包含構(gòu)造成使酸性廢棄排出物流再循環(huán)至*室的再循環(huán)系統(tǒng)，該再循環(huán)系統(tǒng)可進一步構(gòu)造成使堿性廢棄排出物流再循環(huán)至第二室，該系統(tǒng)可構(gòu)造和布置成中和酸性和堿性廢污水流，同時將它們的化學能轉(zhuǎn)化成電能，該系統(tǒng)可構(gòu)造和布置成將*室出口的酸性廢棄排出物流與第二室出口的堿性廢棄排出物流混合以形成鹽溶液源，在一些實施方案中，該系統(tǒng)可進一步包含與鹽溶液源流體連通的第三室，該酸性廢棄排出物在一些實施方案中可包含鹽酸，鹽度不同的溶液之間的化學勢差可在各膜上生成電壓，該系統(tǒng)的總電勢通常是所有膜上的電勢差的總和，這種電滲析設備的中間隔室?guī)缀醪恍孤?，在可比較的壓力降下提供較高的液流速度，在少量沉淀物質(zhì)存在下具有改進性能的較高的轉(zhuǎn)化率和產(chǎn)品回收率。