介紹一種電滲析設(shè)備，其間， 在該水處理設(shè)備的處理室內(nèi)具有至少I對由圓筒狀電極和線狀電極組成的電極對，且上述線狀電極沿著上述圓筒狀電極的中軸設(shè)置， 而且，該水處理 設(shè)備中還具備被處理水供應(yīng)組織，該被處理水供應(yīng)組織使被處理水成為由粒徑1500 μ m以下的水滴構(gòu)成的霧態(tài)后將其供應(yīng)到流光放電空間內(nèi)，所述流光放電空間是通過向上述圓筒狀電極與線狀電極之間施加高電壓而發(fā)生的， 在上述放電空間內(nèi)，上述被處理水以上述霧態(tài)與放電空間內(nèi)的活性種接觸。將水進料至電化學(xué)水處理設(shè)備，所述電化學(xué)水處理設(shè)備包括至少一個離子交換膜； 使得進料水流經(jīng)所述電化學(xué)水處理設(shè)備的濃縮區(qū)室，以生成濃縮流；以及 使得所述進料水流經(jīng)所述電化學(xué)水處理設(shè)備的稀釋區(qū)室，以生成稀釋流，所述稀釋流 具有低于7.0的pH值， 其間，所述至少一個離子交換膜被設(shè)置為將所述濃縮流的PH與所述稀釋流的pH之比提 供為處于0.9至1.2的范圍內(nèi)，而且所述方法不需要極性逆轉(zhuǎn)循環(huán)，不需要用于所述濃縮流 的單獨的酸性水源。此外，關(guān)于將多個電滲析設(shè)備的電極對平行排列、并通過I個噴發(fā)噴嘴從上方向這些電極對噴發(fā)被處理水霧的狀況，優(yōu)選采納下述構(gòu)成:噴發(fā)噴嘴的噴發(fā)軸方向與各圓筒狀電極的中軸平行；與裝備方位挨近噴發(fā)噴嘴的噴發(fā)軸的圓筒狀電極的噴發(fā)噴嘴側(cè)端面相比，裝備方位遠離上述噴發(fā)軸的圓筒狀電極的噴發(fā)噴嘴側(cè)端面被設(shè)置于遠離噴發(fā)噴嘴的方位。在一些實例中，電滲析設(shè)備可被設(shè)置為將濃縮流的pH與稀釋流的pH之比供給為處于約0.9至約1.2的范圍內(nèi)。