在半導體制作工序及電子部件清洗、醫(yī)療器具清洗等方面，需要使用到不含雜質的高純度的純水，這種純水一般將地下水和自來水等原水經過使用電滲析設備進行處理來制作，在高于高鹽度水進料物流的滲透壓的壓力下，唆使一部分高鹽度水進料物流穿過脫鹽組件的反滲透設備中的膜，一起使至少一部分溶解固體不穿過所述膜，從而發(fā)生總鹽度小于5，OOOppm的處理后低鹽度水產品物流和濃縮的廢鹽水物流，其間由高鹽度水進料物流在膜的進料側上施加的靜壓頭提供了為克服滲透壓所需壓力的至少主要分量；將低鹽度水產品物流從注射井中注入載烴地層中；上述電滲析設備處理用電極對中的其間一個電極由導電性的非溶性資料，涂敷有上述導電性的非溶性資料的導電資料，或涂敷有上述導電性的非溶性資料的石墨構成，上述氮處理用電極對中的另一個電極由包括元素周期表中的Ib族，或IIb族的元素的一種以上的導電體，或鐵，或包含鐵的化合物構成，于是，為了到達供給水的溫度，也可以將RO膜中的透過水流量堅持必定，現(xiàn)有提案進行流量反應操控的體系，在這種流量反應操控中，以使以電滲析設備制作的透過水的流量堅持在目標值的方法，經過變頻設備操控向RO膜送出供給水的加壓栗的運轉頻率。